8月2日，国家科技部组织专家组对以中科院长春光学精密机械与物理研究所为依托单位的国家光栅制造与应用技术工程研究中心（简称“国家光栅工程中心”）进行现场评估。

国家光栅工程中心于2007年底经国家科技部批复同意建设，其定位为面向我国科技发展相关重大领域需求和光谱仪器产业迅速发展的需要，开展光栅设计、制造、检测等技术的创新和工程化研究，组织开展光栅应用技术研发、推广和成果转化。

长春光机所是中国光栅的发源地，也是国内研制光谱仪器最早的科研单位之一。国家光栅工程中心依托长春光机所的技术基础和科研力量，扎实推进各项工作。目前，中心已有5台光栅刻划机，具备刻划300mm×300mm以下面积、3600gr/mm以下刻槽密度光栅的能力，并正在财政部支持下开展能够刻划400mm×500mm以下面积、6000gr/mm以下刻槽密度光栅的大光栅刻划机的研制工作。此外，中心拥有光栅母版457块，光栅产品达到行业全覆盖，形成了遍及全国的由200多家单位组成的用户群。

在三年多的组建期间，国家光栅工程中心的多项科研工作在一些重要的工程任务中发挥了作用，光栅技术的成熟度基本达到了工程化水平，在成果辐射、吸引用户、技术扩散和引领行业发展方面起到了中心的作用，实现了“人才、技术、经济”的三个良性循环，走上了一条“快速、协调、可持续”的发展道路。面向国家战略目标，围绕行业发展需求，国家光栅工程中心将在已有基础上，继续发挥“国家工程中心”的作用，作出新的贡献。（柯讯）

《科学时报》 (2011-08-04 A1 要闻)