5月7日，美国材料研究学会（ Materials Research Society，MRS）官方网站的“材料研究当前新闻”（Current research news of Materials News）栏目，以“光栅刷子能清洁原子力显微镜的探针针尖”为题，报道了哈尔滨工业大学化工学院 甘阳教授发表在 Ultramicroscopy上的原创性研究成果（合作者为墨尔本大学的Franks教授，“ Cleaning AFM colloidal probes by mechanically scrubbing with supersharp ‘brushes’”, Ultramicroscopy, Volume 109, Issue 8, July 2009, Pages 1061-1065.）。这是甘阳教授继2009年受邀在《表面科学报告》（ Surface Science Reports）上发表独立署名特邀综述后，又一引起国际关注的成果。

该报道称：“清洁原子力显微镜（atomic force microscope，AFM）针尖是AFM可靠成像和力测量的关键。研究者现在发现，具有超尖刺突的标定光栅作为‘刷子’，可用来机械清除AFM探针上的污染物，这是通过把探针在加大力的恒力模式下扫描刺突来实现。这一方法，不但能用来无损、高效地去除有机和无机污染物，而且可以实现污染物去除和探针研究的一步完成。此外，该方法既可用来清洁胶体/颗粒探针，也可以用来清洁标准AFM针尖。”

甘阳教授认为，作为一种新型的表面污染物“定点”清除方法，该方法的应用远不限于清洁原子力显微镜探针，更有望在广泛的表界面研究、微电子等领域中得到广泛的应用。

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