作者:仇旻等 来源:《光:先进制造》 发布时间:2026/4/14 15:58:41
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冰刻技术赋能2.5维超表面实现超灵敏中红外传感

导读

近期,西湖大学仇旻教授和西湖大学光电研究院赵鼎研究员团队在 Light: Advanced Manufacturing发表了题为“ Refractive Index Sensing in the Mid-Infrared Regime with Ice-Lithography Enabled 2.5-Dimensional Metasurfaces ”的研究论文。

该团队利用独特的“冰刻”技术(Ice Lithography),成功制备了具有垂直不对称的2.5维(2.5D)金属等离激元超表面。得益于冰刻技术无溶剂污染、高对准精度的特性,该团队不仅实现了多层金属-介质结构的精确堆叠,还通过垂直维度的结构调控显著增强了光与物质的相互作用。实验表明,该2.5D超表面的折射率传感灵敏度高达2266 nm/RIU,较传统平面结构提升了3.1倍。这项工作为高性能生化传感器的绿色制造开辟了新路径。

中红外(MIR)波段包含了大量化学键的特征振动频率,被誉为分子的“指纹区”,对于化学检测、环境监测和生物医疗诊断具有重要意义 。基于表面等离激元共振(SPR)的超表面传感器因其能显著增强中红外波段局域光场而备受关注 。

然而,传统的中红外超表面制造主要依赖电子束曝光(EBL)或聚焦离子束(FIB)刻蚀。这些工艺通常需要使用聚合物光刻胶(如PMMA),不仅涉及复杂的“涂胶-显影-去胶”湿法流程,还容易在器件表面残留有机污染物,严重影响传感器的光学品质因数(Q值)和表面化学性质 。另一方面,虽然双光子聚合(TPP)技术擅长构建3D结构,但其在制造离散金属结构方面存在局限性,难以灵活调控等离激元共振 。因此,开发一种既能实现复杂3D结构、又能保持表面洁净的微纳加工技术,是突破当前传感性能瓶颈的关键。

1. 绿色“冰刻”:无溶剂、原位对准的3D加工新范式

该研究采用了团队自主研发的“冰刻”技术(Ice-assisted Electron Beam Lithography),直接使用水蒸气凝结成的无定形冰层作为电子束光刻胶 。与传统工艺相比,冰刻技术具有三大核心优势:

零污染: 全过程无需有机溶剂,冰胶在升温后自然升华,能够获得极致洁净的器件表面,这对于高灵敏度生物传感至关重要 。

原位对准: 利用冰层在电子束下的低敏感性,可以在加工过程中进行原位成像,直接完成多层结构的纳米级对准。

多层堆叠效率: 通过“制冰-曝光-镀膜”的多次循环,极大简化了2.5D/3D结构的制备流程 。

2. 2.5维架构设计:垂直维度上的场增强

研究团队提出了一种2.5维金属十字柱阵列结构(图1)。与平面结构(2D)不同,这种设计在金属十字叉的末端引入了垂直方向的纳米柱(Pillars)。

图1:2.5D超表面结构示意图

仿真与实验发现,随着纳米柱高度(h?)的增加,等离激元共振波长不仅发生红移,更重要的是,电场能量被“抬升”并集中在纳米柱周围(图2)。 这种垂直方向的场分布调控,使得强电场区域能够更充分地与周围的环境介质(待测物)接触,克服了传统平面结构电场主要集中在基底界面的不足,从而显著提升了折射率传感的灵敏度 。

图2:通过纳米柱高度调节超表面光谱和表面电场分布

3. 性能表现:灵敏度大幅提升

实验结果显示,在保持较高Q值(~20)的同时,制备的2.5D超表面(柱高300 nm)在中红外波段表现出了卓越的传感性能。当环境折射率变化时,其实验测得的灵敏度达到2266 nm/RIU,相比于同参数的平面结构(735 nm/RIU)提升了3.1倍 。仿真结果更显示,通过进一步优化柱高,灵敏度理论上可达4208 nm/RIU 。

总结与展望

该研究成功将冰刻技术应用于中红外超表面传感器的制备,证明了通过垂直结构工程可以有效操控光与物质的相互作用。这种没有光刻胶残留、支持复杂形貌构建的加工方法,不仅可以实现高灵敏度分子指纹检测器件,也为未来在柔性基底、甚至生物活体表面制造光电子器件提供了无限可能 。(来源:先进制造微信公众号)

相关论文信息:https://doi.org/10.37188/lam.2026.029

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