作者:王恺等 来源:《光:科学与应用》 发布时间:2025/2/26 15:30:25
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高性能胶体量子点面发射激光器阵列

 

导读

胶体量子点(CQD)作为一类新型激光增益介质,具有低增益阈值、发光波段覆盖完整且灵活可调、溶液法制备成本低、制备工艺兼容等优势,有望为非外延式半导体激光器的发展注入新的动力。在通信、传感、显示等诸多领域中,面发射激光器以其窄发散角、高光效和易于二维阵列化集成等优点,应用价值已获广泛验证,应用场景正不断拓展。因此,通过开发基于CQD的面发射激光器阵列,可集两者之所长,实现低成本、易集成、多波段覆盖的高质量相干光源。

光泵浦CQD激光器是实现未来电泵浦CQD激光器的重要基础,近年来国际上发展较为迅速,但是仍存在以下关键瓶颈:

一,激射阈值较高,且多在飞秒源泵浦下运行。为提升光泵浦CQD激光器的实用价值,需在降低其激射阈值的同时,提高其对相对低成本的皮秒、纳秒乃至(准)连续泵浦源的兼容性。

二,工作稳定性欠佳。较高的激射阈值给CQD材料在激光泵浦下的稳定性提出极大挑战,目前尚未有连续运行10小时以上的CQD激光器报道。

三,集成密度有限。受制于经典的垂直腔面发射激光器(VCSEL)内有限的光场束缚和由此带来的较大模式体积,已报道CQD面发射激光器阵列的集成密度仅为100至300点每英寸(PPI)。

针对上述瓶颈,南方科技大学的王恺教授与孙小卫讲席教授团队联合香港大学Hoi Wai Choi(蔡凱威)教授、深圳技术大学吴丹副教授和苏州星烁纳米王允军博士团队,通过CQD材料和CQD激光微腔两方面的共同改进,开发具有合金化渐变核壳结构的CQD材料,并将之与具有强光场束缚能力的环形布拉格微腔(CBR)结合,构建了兼具低阈值(17 μJ/cm2)、高稳定性(室温连续工作1000小时)和高集成密度(2100点每英寸)等特性的CQD面发射激光器阵列,进一步推动了CQD激光器的发展。

该研究成果以“Low-threshold surface-emitting colloidal quantum-dot circular Bragg laser array”为题发表在Light: Science & Applications。本文通讯作者为南方科技大学王恺教授和孙小卫讲席教授、香港大学Hoi Wai Choi(蔡凱威)教授和深圳技术大学吴丹副教授,第一作者为南方科技大学-香港大学联合培养博士生谭扬志。

研究背景

低阈值、高稳定性的CQD光学增益是实现高性能CQD激射的必要前提。有鉴于此,研究团队开发了一类基于CdZnSe/ZnSe/ZnxCd1-xS合金化渐变核壳结构的CQD材料(图1a),通过平滑化CQD内的激子束缚势,抑制了CQD多激子态下的俄歇复合,有助于降低CQD的光学增益阈值并提升其稳定性。基于对CQD二阶微分吸收谱的分析(图1b),观察到了高达147 meV的轻-重空穴能级劈裂,该值显著高于室温下的热能单位(kBT ≈ 26 meV),说明CQD中的热致带边能级间跃迁可被有效抑制,有助于提升CQD光学增益的稳定性。在亚纳秒脉冲激光泵浦下,CQD的放大自发辐射阈值仅为10 μJ/cm2(图1c和d),为进一步实现低阈值激射打下良好基础。

图1. (a) CQD的CdZnSe/ZnSe/ZnxCd1-xS合金化渐变核壳结构; (b) CQD的光致发光、线性和二阶微分的吸收谱; (c) 变功率的亚纳秒激光泵浦下的CQD的光致发光谱; (d) 与泵浦强度相关的CQD自发辐射与放大自发辐射强度变化曲线。

为实现高性能、高集成度的面发射CQD激光器阵列,需要高效调控CQD激光微腔内的光场分布,以实现:(一)光场与CQD增益介质的有效耦合(以光学束缚因子Γ评估);(二)尽可能强的光场束缚(以模式体积V评估);(三)与CQD增益谱匹配的强珀塞尔效应(以珀塞尔因子FP计)。然而,CQD VCSEL作为一类基于一维光子晶体结构的微腔系统,其光场束缚仅在Z轴上较为有效,在上述三点上仍有较大改进空间。因此,研究团队开发了一类CQD CBR激光器,借助在XY平面上的环形布拉格光栅结构,实现了光场束缚由VCSEL的一维(Z轴)到二维(XY平面)的升维(见图2)。在该器件中,CQD不仅扮演着增益介质的角色,还与相对低折射率的氧化硅一起,构建出完整的CBR谐振腔。基于FDTD的数值仿真表明,得益于其高效的光场束缚,CQD CBR激光腔内的模式体积V相对CQD VCSEL下降了一个量级,光学束缚因子Γ和珀塞尔因子FP也得到显著提升(见图2)。

图2. 基于FDTD仿真的CQD VCSEL和CQD CBR激光微腔内光场分布、珀塞尔效应和光学束缚因子的对比。

得益于CBR微腔内光学束缚因子Γ和珀塞尔因子FP的大幅提升,在准纳秒(0.3 ns)脉宽的泵浦下,CQD CBR激光器的激射阈值(17 μJ/cm2)显著低于CQD VCSEL(56 μJ/cm2),处于已报道的CQD激光中最低阈值之列。同时,由强光场束缚带来的小模式体积V使CQD CBR激光器的高密度阵列化集成成为可能,其集成密度可达2100点每英寸,是当前CQD面发射激光器阵列的最高水平(见图3)。

图3. CQD VCSEL和CQD CBR激光器的激射特性对比。

此外,基于高质量的CQD材料与CBR微腔,CQD CBR激光器展现出良好的工作稳定性,其室温连续工作寿命长达1000小时,对应3.6亿次的稳定脉冲激射,两者均为已报道的溶液处理的纳米晶激光器中的最佳值(见图4)。

图4. (a) CQD VCSEL和CQD CBR激光器的激射稳定性对比; (b) 已报道的基于溶液处理的纳米晶(CQD和胶体量子阱)激光器的激射稳定性统计,横轴为最大连续工作时间,纵轴为脉冲激射次数。

总结与展望

本工作明确了微腔内的高效光场调控对改善CQD激射特性的作用机制,通过结合高质量的CQD材料与具有强光场束缚的CBR微腔,构建了兼具低阈值、高集成密度、高稳定性的CQD面发射激光器阵列,突破了当前CQD激光器在集成密度与工作稳定性上的技术瓶颈,为进一步实现二极管泵浦乃至电泵浦CQD激射打下良好基础。(来源:中国光学微信公众号)

相关论文信息:https://doi.org/10.1038/s41377-024-01714-9

 
 
 
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