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论文作者:Dylan J. Morris 期刊:《材料研究杂志》 发布时间:2009-1-12 16:34:40
测量绝缘薄膜韧性的新方法
 
NIST 的新技术对纳米压痕技术设备做了微小的改动,使探针比通常使用的更尖锐。在电子显微镜下,小心压迫绝缘薄膜使其产生小至300 nm 的裂缝,裂缝形式取决于压痕力、薄膜厚度、薄膜应力以及薄膜和硅衬底的弹性特性等的复杂作用。这些变量将输入一个新的断裂力学模型,不仅可以预测断裂韧性,还可以预测出现自发性破裂的薄膜临界厚度。相关研究成果发表在《材料研究杂志》(Journal of Materials Research )上。(来源:中科院上海硅酸盐研究所) 
  
 (《材料研究杂志》(Journal of Materials Research ),DOI: 10.1557/JMR.2008.0294 ,Dylan J. Morris,Robert F. Cook ) 
  
 (《材料研究杂志》(Journal of Materials Research ),DOI: 10.1557/JMR.2008.0295 ,Dylan J. Morris,Robert F. Cook ) 
 
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