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论文作者:Tim Shallice 期刊:《大脑皮层》 发布时间:2008-7-1 10:19:48
ELSEVIER
虚谈症成因最新研究进展

 
2008年6月的爱思唯尔期刊《大脑皮层》(Cortex)刊登了英国伦敦大学学院的一项针对虚谈症的研究。通过对50名患者的临床调查,研究人员推测大脑内侧前额叶皮层损伤是造成虚谈症的原因。
 
虚谈症是指患者在回忆往事时,常混淆事情发生的时间、地点和情节,张冠李戴,如把过去可能在生活过程中确曾经历过,然而在他所指的那段时间里却从未发生过的事情,错误地当作该时发生的真实事件来诉说,并且不自觉地固执地加以歪曲和渲染,自发地叙述一些从未发生的事件或在清醒意识下产生的“伪造”记忆。
 
研究人员对大脑具有不同部位损伤的50名患者做了研究,结果发现,患有虚谈症的患者有个共同的特点,那就是大脑内侧前额叶皮层都有不同程度的损伤,这个部分在大脑的前端,正好位于眼睛后面。研究发现虚谈症的患者其记忆能力差别很大,症状表现上也有很大差异。因此研究人员认为,虚谈症可能与前额叶皮层有关,大脑这部分是负责控制和规范能力和行为。研究人员推测,内侧前额叶皮层损伤造成患者虚构事实和经历,来填补记忆的空白。
 
研究人员认为,此项研究将有助于对于人脑控制记忆的深入研究,以及探究虚谈症的发病机制。(科学网 于乃森/编译)
 
(《大脑皮层》(Cortex),doi:10.1016/j.cortex.2007.01.002,Martha S. Turner, Tim Shallice)
 
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