三维纳米结构的制造对于传感器、燃料电池中电极、催化剂载体、数据存储等很多领域都十分重要。目前制造三维纳米结构的方法主要有胶体自组装、高分子相分离、控制化学刻蚀等方法。虽然不同的技术对于生产特定的3D结构是非常重要的，但是无人能提供一个全面的解决方案来制造三维纳米结构，这是由于各方法存在不同缺点，如形态中有限的适应性、狭窄的应用领域、复杂的实验装置等。
最近，美国伊利诺斯大学的Shir等人开发了一种全新的三维纳米制造技术用以避免以上问题的发生。此项技术是将柔软、具有弹性的亚波长掩模以几何学上的等角方式与一定厚度且透明的光敏材料相接触，然后进行单、多光子曝光实现的，这种方法被称之为邻近纳米模版法（PnP）。其典型工艺为将透明的感光固体薄膜固定到感光底层之上，然后把弹性体掩模置于薄膜之上，并在原子尺度上进行紧密的等角接触，透过光通过掩模在光敏薄膜内部产生了复杂的光强分布，最后将光敏材料洗掉，从而得到了三维纳米结构。
相关论文发表在《物理化学B辑》（
The Journal of Physical Chemistry B）上。（王勇/编译）
（《物理化学B辑》（The Journal of Physical Chemistry B），111 (45), 12945 -12958, 2007，Daniel J. Shir，John A. Rogers）
