哈尔滨医科大学附属一院神经外科研究人员在“砷剂对脑胶质瘤细胞影响的基因芯片研究及颅内缓释剂型的研发”课题研究中，首次从动物实验角度证实三氧化二砷（As ₂O ₃）能诱导脑胶质瘤细胞凋亡；同时自主研制了As ₂O ₃脂质体缓释剂，在胶质瘤切除术后直接植入手术区域，实现了脑胶质瘤术后局部缓释化疗。

脑胶质瘤是起源于神经外胚层的肿瘤，约占成人颅内恶性肿瘤的70%。该病具有恶性程度高、术后易复发等特点，其复发通常位于原发肿瘤部位，往往在不超过原位置2厘米的范围内发生。因此，有效杀灭残留的肿瘤细胞对改善预后十分必要。

As ₂O ₃是传统中药砒霜的主要化学成分，已被广泛用于白血病、淋巴瘤的治疗并取得良好疗效。在此基础上，近年来国内外学者开始将这一化学药物应用于胃癌、肝癌、头颈癌、前列腺癌等实体性肿瘤上。哈医大一院神经外科主任赵世光教授指导的科研小组，在前期承担的国家自然科学基金“砷剂对脑胶质瘤的影响及细胞周期蛋白变化机制的研究”课题中，首次发现As ₂O ₃可抑制脑胶质细胞系U87MG和T98G的增殖。基于这一进展，课题组又在黑龙江省重大攻关项目经费资助下，继续深入探寻砷剂作用于脑胶质瘤的具体机制，开发具有临床应用价值的间质化疗新剂型。

其间，他们率先在脑胶质瘤动物模型上开展了实验研究，证实As ₂O ₃以剂量依赖的方式抑制肿瘤细胞增殖并诱导凋亡。同时将As ₂O ₃制成粒径为0.25～1微米的单层脂质体，使之更好地透过血脑屏障，提高脑内药物浓度。在使用As ₂O ₃脂质体治疗后的大鼠脑胶质瘤组织电镜切片中，可见肿瘤细胞出现细胞凋亡的典型改变，并呈现出明显的剂量—时间依赖性关系。

科研小组还采用直接压片法将As ₂O ₃与无毒性、无刺激性、具有良好生物相融性的新型降解缓释材料——乙交酯—丙交酯聚合物（PLGA）按比例制成As ₂O ₃脂质体缓释剂，于脑瘤切除术后直接植入手术区域，使恶性脑瘤术后局部缓释化疗成为可能。

专家评价指出，此项研究成果拓展了As ₂O ₃的抗瘤谱及其药用价值，特别是着眼于脑胶质瘤的缓释化学治疗，具有独创性和广阔的临床应用前景。该项成果日前获黑龙江省医药卫生科技进步奖一等奖。

《科学时报》 (2009-2-25 A1 要闻)